Extreme DA
[Synopsys, Inc.と合併]
半導体製造は65nm,45nmと更なる微細化を推し進めるが、 その副作用としてのばらつきは旧来の設計環境では手に負えない領域まできており、 微細化による速度向上等の利点を引き出すことが不可能な状態になりつつある。 同社は、多様な製造ばらつきのチップ性能への影響を正確に解析し、さらに、 その解析結果に基づき設計を最適化する技術を開発した。 同社のソリューション適応により半導体設計者はまた最新半導体製造技術のポテンシャル すべてを引き出すことが可能になる。