[Sagantecと合併]

半導体製品の微細化はとどまる所を知らず、先端製品ではすでに露光装置の光学的限界に達している。これを補うため複雑な光学的補正技術を駆使しなければならず、マスク設計・製造コストの級数的増大を招いている。またこれに微細化そのものに由来する様々な製造上の制約が加わり、最新プロセスでの量産立ち上げは困難を極めている。同社は、製造歩留まりに影響する多様な要因を統合的に分析し、歩留まり向上のために最も重大な影響をもつ要素に対し、最適な補正、修正を効率的に実現する技術を有し、これをDFM（Design For Manufacturability）ツール群をとして開発・提供。マスク製造コスト、および早期量産立ち上げに飛躍的改善をもたらすことにより半導体業界の発展に貢献する。